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磷化設(shè)備中磷化液處理的表面凈化

關(guān)鍵詞:磷化設(shè)備  發(fā)布日期:2013-07-23  來源:無錫華能表面處理有限公司
        金屬表面處理采用磷化設(shè)備,磷化設(shè)備中的磷化液一定溫度下,碳、氮、硫等元索被金屬表面吸附、吸收,形成具有一定深度的表面污染崖。與一般污染層不同,這種污染表面仍可保持金屬光澤。
  把污染表面制備為純凈表面、清潔表面的過程稱為表面凈化。
  為了得到純凈的j金屬表面,需要去掉表面吸附層與表面億臺物井防止二次污染,因此必須在高真空條件下進行。目前應用*多的是離子濺射法,把金屬置于壓力的高真空室內(nèi)、以氳離子進行轟擊濺射,為防止二次污染,減少因轟擊造成的表面損傷,離子加速高壓取200-500V。為進一步減少表面損傷,同時避免在真空退火中內(nèi)部雜質(zhì)向表而聚集,可采用離子磺射與真空退火交替進行的方法。離子濺射表面凈化方法,不僅可以得到純凈表面,而且可以對金屬表面進行蓮屜剝離+對一定深度的表面層進行分屢研究。
  離子濺射表面凈化可直接用于離子鍍、離于滲氟等表面強化技術(shù)中。
  對清潔表面進行真空退火也可得到純凈表面。對f鼻有易丹晶面的單晶體,可在高真空中用劈分法得到純凈表面,但劈丹法不適用于金屬。
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